Артикул: 515-809
Модель: ИЛХ-99(9Ф)
Секция: Дополнительная
Установка для нанесения плёнок с нагреваемым вакуумным столом
Максимальная температура составляет 120 °C. Размеры ракельных ножей составляют 304,8 мм и 250 мм. *
Задать вопрос Искать на Baidu
*) Описание товара приведено в редакции, предоставленной иностранным производителем. Инженеры отдела 91Т уже запланировали техническую и эстетическую редактуру. В скором времени мы проверим технические нюансы, уточним характеристики и терминологию и доработаем текст, чтобы описание ИЛХ-99(9Ф) отвечало на большинство вопросов, а его назначение, возможности и область применения были понятны и доступны. Если вопрос актуален сейчас — просто задайте его нам.
Какую задачу решает установка для нанесения плёнок
Установка для нанесения плёнок предназначена для выполнения операций по нанесению плёнки на обрабатываемую поверхность.
Характеристики ИЛХ-99(9Ф)
Модель (по базе 91Т)ИЛХ-99(9Ф)
Материалmsk-afa-ii-vc-fh
Размер810 мм (длина) × 450 мм (ширина) × 320 мм (высота)
Установка для нанесения плёнок - гибкость поставки.
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации ИЛХ-99(9Ф) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации ИЛХ-99(9Ф) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).
Дата последней проверки актуальности данных: 26.09.26
Данные о производителе и характеристиках проверены.
Люди, которые искали Установка для нанесения плёнок, также смотрели:
Фото обновленной модели ЖСЯ-42(8Л) в процессе подготовки
Ручной лазерный сварочный аппарат для металла мощностью 2 кВт
Модель: ЖСЯ-42(8Л)
Аппарат оснащён волоконным лазером.
+1 фотоКомпактный источник питания для магнетронного распыления
Модель: СВЕ-17(5Ж)
Источник питания предназначен прежде всего для источника магнетронного распыления. Эффективность устройства превышает 90 %, а уровень запасённой энергии на выходе остаётся низким. Встроенная схема подавляет дуговой разряд в процессах, чувствительных к дуге, и управляет дугой при продолжительных дуго
+3 фотоМини-установка для ленточного литья
Модель: ЕМЭ-81(8И)
Мини-установка для ленточного литья оснащена нагреваемым вакуумным столом размером 130 × 200 мм. Максимальная температура стола составляет 100 °C, а для создания вакуума используется насос.
+3 фотоГоризонтальная бисерная мельница
Модель: ТЛА-49(2Д)
Габаритные размеры горизонтальной бисерной мельницы составляют 520 × 460 × 620 мм.




