Артикул: 515-368 Модель: КМЯ-15(1Л) Секция: Дополнительная

Плазменный источник питания средней частоты

Плазменный источник питания имеет мощность 2 кВт и частоту 40 кГц. *

*) Формулировки описания принадлежат зарубежному производителю и приведены без изменений. Инженеры отдела 91Т уже поставили в план техническую и стилистическую редактуру описания. В ближайшее время мы пересмотрим характеристики и терминологию, проверим технические детали и доработаем текст описания КМЯ-15(1Л), чтобы он отвечал на большинство вопросов и ясно раскрывал назначение и возможности оборудования. Хотите получить ответ быстрее — задайте вопрос сейчас же.

Наименование производителя2KW 40kHz Medium Frequency Plasma Power Supply-WT2 for Vacuum Magnetron Sputtering Coating
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает плазменный источник питания

Плазменный источник питания применяется для вакуумного магнетронного напыления покрытий.
Нанесение покрытий

Характеристики КМЯ-15(1Л)

Модель (по базе 91Т)КМЯ-15(1Л)
Отчёт об испытаниях оборудованияпредоставлен
Мощность (Вт)2 кВт
Напряжениепеременный ток 220 В ±10%
Плазменный источник питания - гибкость поставки.
Мы понимаем, что каждый проект уникален. Поэтому по запросу мы готовы рассмотреть настройку технических параметров, типоразмеров и комплектации КМЯ-15(1Л) под конкретные задачи (силами завода-изготовителя или нашего предприятия в России).

Данные проверены на актуальность: 26.09.26

Информация о производителе и характеристиках подтверждена.

Люди, которые искали Плазменный источник питания, также смотрели:

Закрытая лазерная гравировальная машина с УФ-лазером 5 Вт, 355 нм, для точной маркировки пластика, стекла, керамики и электронных компонентов+4 фото

Закрытая лазерная гравировальная машина с УФ-лазером 5 Вт, 355 нм, для точной маркировки пластика, стекла, керамики и электронных компонентов

Модель: ЭТЭ-75(8М)
Закрытая лазерная гравировальная машина оснащена УФ-лазером мощностью 5 Вт с длиной волны 355 нм. Она предназначена для точной маркировки пластика, стекла, керамики и электронных компонентов. Глубина маркировки составляет 0–5 мм, скорость маркировки — 4000–15000 мм/с. Система охлаждения использует в
Волоконный лазерный станок закрытого типа для трёхмерной гравировки и маркировки ювелирных изделий+1 фото

Волоконный лазерный станок закрытого типа для трёхмерной гравировки и маркировки ювелирных изделий

Модель: ДТА-88(4Ш)
Волоконный лазерный станок закрытого типа оснащён дверцей и защитным стеклом. Ограниченное внутреннее пространство рассчитано на обработку небольших предметов. Станок выполняет поверхностную и глубокую гравировку металлических ювелирных изделий, наносит изображения на металлические бирки, обрабатыва
Электрический вакуумный подъемник для стекла с аккумуляторным питанием, X-образной стальной рамой и присосками+5 фото

Электрический вакуумный подъемник для стекла с аккумуляторным питанием, X-образной стальной рамой и присосками

Модель: ХИС-82(2В)
Электрический вакуумный подъемник получает питание от аккумулятора и удерживает груз с помощью присосок. Его X-образная рама изготовлена из стали. В зависимости от исполнения грузоподъемность составляет 1200, 1600, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800 или 1000 кг. Доступны конфигурации с 4, 6, 8 или 10
Портальная волоконно-лазерная маркировальная машина большого формата+4 фото

Портальная волоконно-лазерная маркировальная машина большого формата

Модель: ЕКТ-22(8Я)
Открытый рабочий стол облегчает загрузку обрабатываемого материала. Максимальная область маркировки составляет 600 × 1000 мм. Длина волны лазера — 1064 нм. Мощность лазера может составлять 20, 30, 50, 60 или 100 Вт. Максимальная скорость маркировки достигает 7000 мм/с. Минимальная ширина линии — 0,0