Артикул: 516-615 Модель: АНГ-42(4Ф) Секция: Дополнительная

Источник питания постоянного тока для плазменного распыления мощностью 500 Вт с возможностью установки магнетронной распылительной головки

Габаритные размеры изделия: ширина 440 мм, высота 85 мм, глубина 403 мм. *

*) Описание оборудования дано в том виде, в котором его подготовил иностранный производитель. Техническая и эстетическая доработка текста уже в планах инженеров отдела 91Т. Скоро мы уточним терминологию и технические характеристики, проверим нюансы и доработаем текст так, чтобы описание АНГ-42(4Ф) было исчерпывающим, а назначение и возможности оборудования — понятными и доступными. Если ждать не хочется — напишите нам вопрос прямо сейчас.

Наименование производителя500W DC Plasma Sputtering Power Supply with Optional Magnetron Sputtering Head - DC-500-LD
Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает источник питания для плазменного распыления

Источник питания для плазменного распыления используют для питания оборудования в процессе распыления; магнетронная распылительная головка устанавливается дополнительно.

Характеристики АНГ-42(4Ф)

Модель (по базе 91Т)АНГ-42(4Ф)
Материалисточник питания постоянного тока для плазменного распыления мощностью 500 Вт
РазмерШ440 мм × В85 мм × Г403 мм
Источник питания для плазменного распыления - гибкость поставки.
Каждый проект имеет свои особенности, и мы это учитываем. Именно поэтому по запросу мы уточним у производителя, возможна ли корректировка технических характеристик, типоразмеров и комплектации АНГ-42(4Ф) под условия применения (руками первого изготовителя или собственного производства в России).

Дата актуализации информации: 26.09.26

Производитель и параметры оборудования проверены.

Люди, которые искали Источник питания для плазменного распыления, также смотрели:

Установка для нанесения покрытий методом углового погружения+4 фото

Установка для нанесения покрытий методом углового погружения

Модель: ЭХЮ-28(4Е)
Установка предусматривает четыре держателя стаканов для обработки четырех разных подложек. Угол наклона при погружении регулируется в диапазоне от 0 до 45° в зависимости от задачи. Для каждого стакана независимо настраиваются скорость погружения, длительность погружения, скорость вывода и длительнос
Рулонная электрохимическая система для получения двумерных чешуек+1 фото

Рулонная электрохимическая система для получения двумерных чешуек

Модель: ШКУ-18(9Я)
Объёмная плёнка с разматывающего ролика поступает в первую ванну, где при напряжении 10–1000 В проходит электрохимическую интеркаляцию. Раствор первой ванны содержит сильную кислоту или основание с интеркалятором. Затем интеркалированная плёнка направляется во вторую ванну с сильной кислотой или осн
Электрохимическая ячейка для рамановских исследований с системой давления

Электрохимическая ячейка для рамановских исследований с системой давления

Модель: ИПИ-48(2Л)
Электрохимическая ячейка оснащена системой давления с максимальным давлением 6 МПа. Корпус изготовлен из титана высокой чистоты. В конструкции предусмотрены рабочий, противоэлектрод и референсный электроды; их разделяет мембрана, предоставляемая пользователем. Давление регулируется пружиной для оцен
Муфельная печь с контролем атмосферы+2 фото

Муфельная печь с контролем атмосферы

Модель: ФШУ-88(5С)
Рабочая камера изготовлена из стали, имеет размеры 410 × 410 × 500 мм и объём 80 л. Теплоизоляция выполнена из волокнистого оксида алюминия класса 1800, максимальная загрузка составляет 100 кг. Нагрев обеспечивают 8 элементов. При работе на воздухе непрерывная температура составляет 800–1700 °C, в и