Высоковакуумная плазменная установка магнетронного распыления с тремя головками

Плазменная система рассчитана на совместное распыление до трёх различных материалов мишеней с формированием профилей состава на подложке. Она поддерживает последовательное нанесение многослойных плёнок, включая ферроэлектрические, сплавные, полупроводниковые, керамические, диэлектрические, оптические, оксидные и твёрдые покрытия, а также покрытия из PTFE. Питание установки осуществляется от сети 208–240 В переменного тока, одна фаза, 50/60 Гц; мощность составляет 1500 Вт. Предусмотрены два источника постоянного тока мощностью по 500 Вт для металлических материалов и один радиочастотный источник мощностью 300 Вт с частотой 13,56 МГц для непроводящих материалов. Распылительные головки имеют водоохлаждаемые рубашки и заслонки. Диаметр мишени составляет 50,8 мм, толщина — 2,54–127 мм; мишени поставляются опционально. Вакуумная камера из нержавеющей стали имеет диаметр 300 мм и высоту 300 мм, оснащена стеклянным смотровым окном диаметром 100 мм и откидным верхним фланцем. Поворотно-нагреваемый столик для образцов диаметром 140 мм обеспечивает нагрев до 500 °C и вращение со скоростью 1–20 об/мин; используется однопозиционный программируемый контроллер температуры. Газовый контур включает три контроллера массового расхода с диапазоном 0–200 см³/мин, калибровкой по азоту и вентиляционным портом 6,35 мм. Опциональная насосная станция включает турбомолекулярный насос производительностью 63 или 260 л/с и форвакуумный насос: пластинчато-роторный 240 л/мин или сухой спиральный 200 л/мин. Для системы доступен опциональный охладитель с диапазоном охлаждения 5–35 °C, расходом 16 л/мин и давлением насоса 0,965 бар. Опциональный кварцевый микробаланс измеряет толщину плёнки непосредственно в процессе нанесения с точностью до 0,1 нм. Изделие имеет одобрение CE.

Наименование производителя

DC/RF 3-head High Vacuum 2" Magnetron Plasma Sputtering Coater - VTC-600-3HD-LD