Высоковакуумная установка для магнетронного напыления с четырьмя головками для мишеней диаметром 50,8 мм

Установка выполнена по модульной схеме: вакуумная камера, насосный блок и источники питания и управления выделены в отдельные модули, поэтому конфигурацию можно адаптировать к требованиям пользователя. Один источник способен управлять несколькими мишенями, а каждая мишень может получать отдельное управление от собственного источника. Для металлических материалов предусмотрен источник постоянного тока мощностью 500 Вт; для непроводящих материалов используется радиочастотный источник мощностью 300 Вт с частотой 13,56 МГц. Суммарное энергопотребление не превышает 3,5 кВт. Головки имеют водяные рубашки охлаждения и шторки. Камера из нержавеющей стали выполнена в полуцилиндрической форме, имеет диаметр 300 мм и откидной верхний фланец для доступа к образцу; предельный вакуум составляет 3,0 × 10⁻³ Па. Вращающийся нагреваемый столик для образцов диаметром 140 мм развивает скорость 1–20 об/мин и нагревается до 500 °C. Газовый контур включает два массовых расходомера с диапазоном 0–200 см³/мин, откалиброванных по азоту, а также вентиляционный порт диаметром 6,35 мм. Опциональная насосная станция для чувствительных к воздуху мишеней может включать турбомолекулярный насос производительностью 63 или 260 л/с и насос предварительного разрежения: пластинчато-роторный с производительностью 240 л/мин либо сухой спиральный с производительностью 200 л/мин. Для охлаждения требуется охлаждённая вода; рекомендован цифровой терморегулируемый рециркуляционный охладитель с диапазоном 5–35 °C, расходом 16 л/мин и давлением насоса 0,965266 бар. Кварцевый микровес доступен опционально для измерения толщины плёнки непосредственно в процессе с точностью до 1 ангстрема. Непроводящие мишени устанавливаются с медной опорной пластиной, а установка может размещаться в перчаточном боксе.

Наименование производителя

High Vacuum 4-Head 2" Magnetron Sputtering Coater VTC600GD4HD with DC and RF Power for Precision Research Applications