Высокомощный импульсный источник питания для магнетронного распыления

Высоковольтный импульсный плазменный источник питания оснащён микроконтроллерным управлением и сенсорным ЖК-дисплеем с диагональю 109,22 мм. Система управления обеспечивает комплексную защиту и стабильную выходную мощность. Предусмотрены регулирование постоянного импульсного тока и постоянного разряда, а также режимы ограничения пикового тока и количества разрядов. Быстрое обнаружение дуги за один импульс и управление ею стабилизируют процесс распыления. Точность управления составляет ±0,5% + 1 разряд. Интеллектуальные функции защиты и обнаружения неисправностей упрощают эксплуатацию и техническое обслуживание. Дополнительные интерфейсы связи предназначены для дистанционного управления и телеметрии. Система охлаждения снижает рабочую температуру электронных компонентов, продлевает срок службы и допускает непрерывную работу без перекрытия вентиляционных отверстий. Максимальные габариты основного блока составляют 483 × 89 × 300 мм, масса — 3,2 кг. Для работы требуется переменный ток 220 В с допуском ±10% при частоте 50 Гц. Частота выходных импульсов регулируется в диапазоне 50–2000 Гц с точностью ±0,1%, длительность импульса — 3,5–1000,0 мкс с точностью ±0,1%. Максимальная допустимая выходная мощность составляет 3000 Вт. Предусмотрены варианты зарядной мощности 1000, 2000 и 3000 Вт, выбираемые при заказе. Максимальное зарядное напряжение равно 1000 В. Диапазоны обнаружения пикового тока, скорости нарастания импульсного тока и импульсного разряда составляют соответственно 5–300 А, 1–60 А/мкс и 5–5000 мкКл. Рабочая температура источника питания и дисплея составляет 10–40 °C, относительная влажность — 5–85% без конденсации.

Наименование производителя

HiPIMS High-Power Pulsed Magnetron Sputtering Power Supply - Lab PVD Nanoparticle & Thin Film Coating