Лабораторная система осаждения тонких плёнок с вакуумным сушильным шкафом

Компактная лабораторная система оснащена пятью высокочастотными клапанами, распределительной головкой для газа и пара диаметром 101,6 мм с отверстиями 0,5 мм и вращающейся нагреваемой платформой для образца. Радиочастотный генератор имеет мощность 300 Вт. Управление выполняется с панели и программного обеспечения для ноутбука. Питание рассчитано на 208–240 В переменного тока, одну фазу и частоту 50/60 Гц; общая мощность 9,5 кВт необходима для работы всех нагревательных элементов и плазмы. Программируемый логический контроллер и сенсорный экран диагональю 152,4 мм регулируют время импульса пара, расход инертного газа, температуру нагревательного барботера и ленты, а также скорость вращения платформы. Плазменный радиочастотный блок работает на частоте 13,56 МГц, с максимальной мощностью 100 Вт и автоматическим согласованием. Газовая часть имеет два канала, а массовый расходомер обеспечивает точность ±0,2% полной шкалы; вакуум регулируется изменением расхода газа. Одночастотный клапан работает с частотой включения и выключения до 283 Гц, минимальная длительность импульса составляет 10 мс. Система может подавать осушающий газ или жидкость в паровой фазе. Распределительная головка может быть изготовлена из алюминия или нержавеющей стали, а вход выполнен трубкой диаметром 6,35 мм для подачи газа или пара. Платформа имеет диаметр 101,6 мм, вращается со скоростью 0–5 об/мин и нагревается до 800 °C; для осаждения прекурсора действует ограничение менее 550 °C при точности ±5 °C. Камера выполнена из кварцевой стеклянной трубы с наружным диаметром 165 мм, внутренним диаметром 150 мм и высотой 250 мм. Фланцы из нержавеющей стали 304 обеспечивают вакуум 1e-5 торр при использовании турбомолекулярного насоса и 1e-2 торр при использовании механического насоса; предусмотрен встроенный вакуумный порт KF 25. В комплект входят два нагреваемых барботера объёмом по 150 мл с регуляторами температуры для прекурсоров. Для точного контроля давления прекурсора в барботере рекомендуется манометр. Система имеет сертификацию CE. ^*

*) Описание оборудования представлено в авторской редакции иностранного производителя. Наши инженеры уже включили техническую и эстетическую редактуру описания в рабочий план. Мы в ближайшее время уточним терминологию и характеристики, перепроверим технические детали и доработаем текст так, чтобы описание АКА-54(2Б) закрывало большинство вопросов, а назначение, возможности и задачи оборудования стали понятны каждому. Не хотите ждать? Задайте вопрос прямо сейчас.

Наименование производителя

Lab 800C Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) System with Vacuum Drying Oven & 4" Rotary Stage-ALD-800X-4-PE (MGSI), 800°C PEALD System with 4" Rotary Stage for Semiconductor & Thin Film Deposition - ALD-800X-4-PE