Лабораторная установка для нанесения покрытий центрифугированием для кремниевых пластин

Установка рассчитана на подложки размером 200–300 мм. Скорость вращения регулируется в диапазоне 10–6000 об/мин, а ускорение непрерывно настраивается от 10 до 1000 об/мин/с. Стабильность скорости составляет ±1 об/мин, равномерность нанесения покрытия — ±1%. Предусмотрено вращение в прямом и обратном направлениях. Интерфейс оператора выполнен на сенсорном экране диагональю 203,2 мм; также доступно управление с компьютера через программное обеспечение. Для подключения предусмотрен стандартный USB-интерфейс. Система позволяет сохранять неограниченное количество данных; в стандартном режиме в каждой группе задаются 15 скоростей, а опционально число скоростей в группе не ограничивается. Длительность периода настраивается от 0 до 10 000 с, предусмотрена защита данных при отключении питания. Насос обеспечивает производительность не менее 60 л/мин, максимальный вакуум составляет −85 кПа, уровень шума — не более 55 дБ. Мощность установки равна 2 кВт, насоса — 350 Вт. Питание установки однофазное, частота — 50/60 Гц. Масса установки составляет 50 кг, масса насоса — 9 кг. Относительная влажность окружающей среды должна быть менее 85%, температура — от 0 до 40 °C.

Наименование производителя

Lab Vacuum Spin Coater Acceleration Adjustable Spin Coating Machine for 12 Inch Silicon Wafer R&D Research KW-4Q