Лабораторный источник магнетронного распыления

Name: Лабораторный источник магнетронного распыления
SKU: 508-419

Источник оснащён гибкой распылительной головкой, совместимой с источниками распыления диаметром 25,4 мм. Он работает с блоками питания постоянного, импульсного постоянного и радиочастотного тока. Высоковакуумная конструкция рассчитана на использование аргона при низком давлении, что уменьшает количество газовых столкновений внутри камеры и способствует повышению качества покрытия. Круглые редкоземельные магниты изолированы от охлаждающей воды защитным покрытием от коррозии; их можно заменять непосредственно на месте эксплуатации. Магнитный узел рассчитан на высокую напряжённость и равномерный профиль поля с применением электромагнитных конечно-элементных расчётов. Низкоимпедансная распылительная головка с разъёмом HN совместима с широким диапазоном источников питания постоянного и радиочастотного тока. Установка выполняется обычными инструментами, а замена мишени не требует приклеивания. Источник допускает нагрев до 200 °C. В комплект входят медная опорная пластина, одна медная мишень, стандартный разъём HN и быстросъёмный вакуумный соединитель. Диаметр распылительной головки составляет 46,3 мм, диаметр мишени — 25,4 ± 0,508 мм, максимальная толщина мишени — 3 мм, наружный диаметр вала — 19,05 мм. Максимальная мощность составляет 250 Вт для постоянного тока и 100 Вт для радиочастотного режима; ток катода — до 3 А, напряжение катода — 200–1000 В. Рабочее давление находится примерно в диапазоне от 1 мТорр до 1 Торр. Требуется водяное охлаждение с расходом 1,8927 л/мин фильтрованной воды и температурой на входе ниже 20 °C; используются быстросъёмные соединители с наружным диаметром 6,35 мм. Общая длина источника составляет 355,6 мм, масса — 5 кг. Распылительную головку можно наклонять на ±45° для регулировки угла падения частиц, а разметочные линии обеспечивают точную настройку угла.

Наименование производителя

Laboratory PVD Magnetron Sputter Gun Source for Vacuum Coating System, Target Sputtering and Advanced Thin Film Fabrication, 2026 Hot Sale 4" High Vacuum Magnetron Sputter Gun Source with Quick Connector for Sputtering Target and Thin Film Coating

Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает источник магнетронного распыления

Источник магнетронного распыления применяют для распыления металлических, электрически изолирующих, магнитных и немагнитных мишеней при нанесении вакуумных покрытий и изготовлении тонких плёнок.

Распыление материалов

Характеристики ЖЮХ-87(9Ю)

Модель (по базе 91Т)ЖЮХ-87(9Ю)

Материалмагнетронное распыление, распылительная пушка

Источник магнетронного распыления - гибкость поставки.
Мы учитываем, что каждый проект индивидуален. В связи с этим по запросу мы уточним, возможна ли донастройка технических характеристик, типоразмеров и комплектации ЖЮХ-87(9Ю) под ваши требования (усилиями первого изготовителя или собственного завода в России).

Дата актуализации информации: 08.10.26

Производитель и параметры оборудования проверены.