Источник питания средней частоты 40 кГц для системы вакуумной плазменной очистки

Name: Источник питания средней частоты 40 кГц для системы вакуумной плазменной очистки
SKU: 511-433

Источник питания является силовым блоком системы вакуумной плазменной очистки. ^*

*) Описание представлено так, как его составил иностранный производитель. Отдел 91Т уже запланировал техническую и эстетическую правку этого текста. В ближайшее время мы уточним характеристики и терминологию, проверим технические нюансы и доработаем текст так, чтобы описание МНЭ-75(2У) отвечало на большинство возникающих вопросов, а назначение оборудования, его возможности и круг решаемых задач стали понятными и доступными. Если не хотите ждать — задайте вопрос прямо сейчас.

Наименование производителя

WT2-2KW 40kHz Medium Frequency Cleaning Power Supply Vacuum Plasma Cleaning System Power Source

Задать вопрос Искать на Baidu

Какую задачу решает источник питания для вакуумной плазменной очистки

Источник питания для вакуумной плазменной очистки применяют для работы системы вакуумной плазменной очистки.

Характеристики МНЭ-75(2У)

Модель (по базе 91Т)МНЭ-75(2У)

Основные компонентыинверторный модуль средней частоты, система контроля тока и напряжения, схема защиты, панель управления / интерфейс

Отчёт об испытаниях оборудованияпредоставлен

Мощность (Вт)2 кВт

Напряжениепеременное напряжение 220 В ±10%

Источник питания для вакуумной плазменной очистки - гибкость поставки.
Мы осознаём, что у каждого проекта свои особенности. В связи с этим мы можем обсудить изменение технических характеристик, типоразмеров и комплектации МНЭ-75(2У) под условия эксплуатации (на мощностях оригинального производителя или нашего завода в России).

Дата последней сверки данных: 26.09.26

Производитель и характеристики проверены.