Специальные лабораторные принадлежности
Товары
+5 фотоВысоковакуумная установка термического напыления
Модель: ЯКС-54(2Л)
Установка термического напыления обеспечивает одновременное испарение материалов из двух типов источников. Входное питание составляет 220 В ±10%, переменный ток, трехфазное подключение, частота 50/60 Гц; суммарная мощность — 8 кВт, ток — около 32 А. Вакуумная камера из нержавеющей стали имеет полиро
+2 фотоВысоковакуумная установка термического испарения с четырьмя источниками нагрева
Модель: ИГА-45(7Ф)
Установка оснащена камерой из нержавеющей стали с электрополированной поверхностью, внутренним диаметром 300 мм и высотой 360 мм. Для наблюдения предусмотрено окно диаметром 100 мм, а шарнирная передняя дверца облегчает загрузку образцов. Для каждого испарительного источника предусмотрена моторизова
+5 фотоСистема термического испарения с четырьмя испарительными источниками
Модель: ЛДЮ-52(4Е)
Кварцевая камера имеет наружный диаметр 280 мм, внутренний диаметр 260 мм и длину 310 мм. Вращающийся держатель образца диаметром 50,8 мм оснащён заслонкой; скорость вращения составляет 5 об/мин, а расстояние до источника регулируется от 40 до 85 мм. Испарительные тигли из оксида алюминия рассчитаны
+4 фотоПятигорлая электрохимическая ячейка с плоским держателем образца
Модель: ЛПИ-51(2Ж)
Ячейка выполнена из стекла и имеет вместимость 500 или 1000 мл. Рабочий электрод устанавливают в среднем горле через шлифованное стеклянное соединение размером 45 мм, а соседние горла оснащены шлифованными соединениями размером 24 мм. Комплект рабочего электрода включает опору для одного образца без
+2 фотоИсточник магнетронного распыления с гибкой головкой для мишеней диаметром 25,4 мм
Модель: ТУВ-42(8Л)
Источник магнетронного распыления совместим с источниками питания постоянного тока, импульсного постоянного тока и радиочастотными источниками питания. Высоковакуумная конструкция позволяет использовать аргон при низком давлении, уменьшая число столкновений газа в вакуумной камере и повышая качество
+1 фотоВЧ-генератор со встроенной автоматической согласующей сетью
Модель: ТБИ-49(2Ю)
Устройство формирует радиочастотную мощность на частоте 13,56 МГц; стабильность частоты составляет ±0,005%. Выходная мощность регулируется в диапазоне от 5 до 300 Вт, стабильность выходной мощности — ±1%. Согласование выполняется с помощью переменного воздушного конденсатора. Охлаждение воздушное, у
Источник питания для плазменного распыления мощностью 500 Вт
Модель: ЛША-58(8У)
Компактный блок имеет КПД более 90 % и низкую запасённую энергию на выходе. Встроенная схема обеспечивает подавление дуги при работе с чувствительными к дуге установками и управление дугой при продолжительной дуговой работе. Органы управления на передней панели позволяют выбирать регулирование по по
+1 фотоРадиочастотный источник питания мощностью до 600 Вт
Модель: ЮХЭ-14(9К)
Устройство рассчитано на питание от однофазной сети переменного тока 208 В без нейтрали, с заземлением; номинальная частота сети составляет 50/60 Гц, типичный входной ток при 208 В — 10 А. Рабочая частота настраивается в диапазоне от 400 кГц до 60 МГц; доступны значения 400 кГц, 2 МГц, 13,56 МГц, 27
+3 фотоВысоковакуумная плазменная установка магнетронного распыления с тремя головками
Модель: ИШФ-55(2У)
Плазменная система рассчитана на совместное распыление до трёх различных материалов мишеней с формированием профилей состава на подложке. Она поддерживает последовательное нанесение многослойных плёнок, включая ферроэлектрические, сплавные, полупроводниковые, керамические, диэлектрические, оптически
+4 фотоУстановка магнетронного плазменного напыления с двумя головками
Модель: БША-85(1Ж)
Компактная установка размещается в перчаточном боксе с камерой очистки. Габариты бокса составляют 1200 × 740 × 900 мм; исполнение выполнено из нержавеющей стали. Откидная передняя дверца предназначена для загрузки устройств и образцов. Автоматическая продувка удаляет кислород и водяной пар перед рец
+2 фотоУстановка для плазменного магнетронного напыления с тремя головками и встроенным перчаточным боксом
Модель: ГЛЭ-87(5Х)
Питание установки составляет 208–240 В переменного тока при однофазном подключении и частоте 50/60 Гц; мощность — 1500 Вт. Система очистки высокой чистоты поддерживает содержание кислорода и воды менее 1 части на миллион. Предусмотрены автоматическая продувка для удаления воздуха перед рециркуляцион
+2 фотоКомпактная установка магнетронного распыления
Модель: ЕТМ-41(4М)
Установка магнетронного распыления оснащена двумя головками с водоохлаждаемыми кожухами и шторками. Одна головка подключена к источнику постоянного тока мощностью 500 Вт, другая — к радиочастотному источнику мощностью 300 Вт с частотой 13,56 МГц. Электропитание рассчитано на 208–240 В переменного то
+5 фотоУстановка для нанесения тонких плёнок 2 в 1
Модель: ЖБЕ-91(4Л)
Вакуумная камера из нержавеющей стали содержит магнетронную распылительную головку диаметром 25,4 мм с быстросъёмным соединителем для высокого вакуума и тигель для термического испарения. Распыление выполняется снизу вверх; расстояние до площадки образца регулируется от 60 до 100 мм, а поворотная за
+2 фотоУстановка для ВЧ-плазменного магнетронного напыления с тремя головками размером 25,4 мм
Модель: НЖИ-12(5Т)
Поворотный переключатель активирует одну распылительную головку за раз и позволяет менять головку в плазме без нарушения вакуума. Поддерживаются конфигурации: три канала постоянного тока; один радиочастотный и два канала постоянного тока; два радиочастотных и один канал постоянного тока. Источник ра
+2 фотоТрёхголовочная установка магнетронного распыления с системой очистки газа
Модель: ЕХН-77(9Н)
В единый блок управления встроены три источника питания для распыления: источник постоянного тока мощностью 500 Вт и радиочастотный источник мощностью 300 Вт с частотой 13,56 МГц. Входное питание однофазное, 220 В переменного тока с допуском ±10 %, частота 50/60 Гц, общая мощность составляет 2000 Вт
+2 фотоЛабораторная настольная установка для электроспиннинга и электроспрейинга
Модель: РЭК-98(2К)
В состав установки входит источник высокого напряжения 30 кВ; система предназначена для получения нановолокон.
+3 фотоТрёхэлектродная форма для испытаний аккумуляторных батарей
Модель: ЕДЛ-72(4Н)
Изделие представляет собой аналоговое устройство с формой для испытаний аккумуляторных батарей по трёхэлектродной схеме. Конструкция рассчитана на работу с рабочим электродом, противоэлектродом и электродом сравнения, что позволяет формировать соответствующую испытательную конфигурацию. Электродное
+3 фотоНастольная установка для нанесения покрытий методом погружения
Модель: ЭМА-72(1Х)
Оборудование оснащено сенсорным ЖК-экраном с диагональю 6 дюймов. На панели управления задаются скорость погружения и подъёма 1–200 мм/мин с точностью ±0,05 %, расстояние погружения и подъёма 75 мм, время выдержки до 999 с и число циклов до 20. Держатель образца имеет два винтовых зажима; образцы пе
+4 фотоПрецизионное приспособление для полировки диаметром 101,6 мм
Модель: ЛМЯ-18(9Л)
Вакуумный зажим удерживает пластину или подложку с помощью вакуумного насоса без воска, обеспечивая чистую, быструю и ровную установку образца. В комплект входят вакуумная трубка длиной 0,6096 м для подключения насоса и два балластных груза для регулировки гравитационной нагрузки при обработке. Труб
+5 фотоВакуумная машина для образцов
Модель: ХСЯ-57(8У)
Конструкция вакуумной машины выполнена методом литья под давлением из поликарбоната, обладающего стойкостью к повреждениям, хорошей прозрачностью и малой массой. Герметизация обеспечивается кольцевым уплотнением из силиконовой резины. После вакуумирования степень вакуума сохраняется в течение 30 дне
+4 фотоКомпактная установка магнетронного распыления
Модель: ГИН-11(2Ю)
Установка магнетронного распыления выполнена с одной плазменной распылительной головкой и водоохлаждаемыми кожухами. Для охлаждения требуется цифровой рециркуляционный охладитель воды с расходом 16 л/мин; в комплект входит радиочастотный кабель длиной 148 см. Максимальная мишень имеет диаметр 50,8 м
+3 фотоНастольная установка для высокомощного магнетронного распыления постоянного тока
Модель: УРВ-19(5Б)
Установка оснащена кварцевой вакуумной камерой в виде стеклянной трубки с наружным диаметром 165 мм, внутренним диаметром 150 мм и высотой 250 мм. Гибкая распылительная головка имеет водяное охлаждение; допустимая толщина мишени составляет до 6,35 мм для немагнитных и до 1,5875 мм для магнитных мате
+3 фотоРотационная плазменная установка с тремя мишенями
Модель: АШИ-85(9Е)
Габаритные размеры установки составляют 500 × 350 × 550 мм (длина × ширина × высота).
+3 фотоУстановка для нанесения покрытий методом магнетронного распыления постоянного тока
Модель: ДЯЛ-98(8Т)
Габаритные размеры установки составляют 500 × 350 × 550 мм (длина × ширина × высота), масса нетто — 20 кг.